DLC類金剛石涂層是一種亞穩(wěn)態(tài)的非晶碳莫，兼具金剛石和石墨的優(yōu)質(zhì)特性，具有較好的硬度、良好的熱傳導性、低摩擦系數(shù)、優(yōu)異的電絕緣性能、高化學穩(wěn)定性等應用優(yōu)點，在機械制造、生物醫(yī)學、電子設備等領域有著廣泛應用。DLC涂層主要采用物理氣相沉積法、化學氣相沉積法來制備，通過專門的沉積設備進行生產(chǎn)制作。下面，小編為大家簡單介紹一下DLC涂層沉積設備組成系統(tǒng)有哪些吧。

　　一、加熱與水冷系統(tǒng)

　　加熱系統(tǒng)與水冷系統(tǒng)均勻分布于沉積室四周，加熱溫度、速度及水量可控可調(diào)，并安裝有相應的報警裝置；旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)位于沉積室底部，通過絕緣陶瓷進行絕緣，旋轉(zhuǎn)速度可控可調(diào)。

　　二、真空系統(tǒng)

　　真空系統(tǒng)由機械泵、羅茨泵、擴散泵及相應的控制閥門、測量元件組成，可以根據(jù)工藝需要自由地進行高真空和低真空的切換。

　　三、供氣系統(tǒng)

　　供氣系統(tǒng)置于沉積室頂部，氣體種類包括H2、N2、Ar、CHa、C2H2、含Si氣體，同時沉積室頂部預留兩路接口，方便以后其他種類氣體的添加。

　　含Si的過渡層是公認的PCVD方法中有利于增強DLC涂層與基體結合力的一種涂層，為了獲得Si，通常采用SiH4作為原料氣，但是SiH4危險性較高，所以在此采用了危險性較低的含Si氣體作為Si源。

　　四、沉積靶材系統(tǒng)

　　設備具有PVD和PCVD兩個沉積單元，PCVD單元主要目的是用于類金剛石(DLC)的沉積，采用的電源為脈沖調(diào)制電源，各項參數(shù)連續(xù)可調(diào)，通過對參數(shù)的調(diào)整，可以沉積不同硬度和厚度的DLC涂層，同時，通過對工件裝卡方式的調(diào)整，還可以在復雜工件上進行涂層；PVD單元的目的主要有：①針對不同的基體通過更換不同的靶材可以開發(fā)不同的粘結層或含有不同種類元素的金屬摻雜DLC涂層；②通過更換靶材，可以形成多種“功能層+DLC”的用于不同領域的復合涂層。

　　五、電氣控制系統(tǒng)

　　電氣控制系統(tǒng)采用PLC全自動控制，包括上位機、PLC可編程控制器、適配轉(zhuǎn)換器、控制電源、真空控制電源及測量系統(tǒng)、送氣控制電源、溫控系統(tǒng)、冷卻水檢測控制電源等。開爐前，在工藝編輯界面編輯涂層工藝并存檔，在開爐時調(diào)用所需工藝，設備將自動運行，并實時進行檢測監(jiān)控。若有問題設備將自動報警，根據(jù)警報等級設備選擇“等待”狀態(tài)或直接停機，待警報解除后繼續(xù)運行。每爐的運行記錄及報警記錄都自動存儲于電腦中方便查閱。根據(jù)需要，設備可改為全手動運行，涂層過程中在主操作界面調(diào)整各項涂層參數(shù)進行控制。

　　以上就是DLC涂層沉積設備組成系統(tǒng)有哪些的相關內(nèi)容介紹，我們在使用沉積設備時要注意采用正確方法操作，確保DLC涂層制備質(zhì)量。