隨著生產(chǎn)力水平不斷提高，生產(chǎn)技術(shù)不斷向前發(fā)展，涂層在工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用也越來越重要，并且涂層技術(shù)也在進步。面對快速發(fā)展的工業(yè)經(jīng)濟，針對涂層技術(shù)的要求也越來越高。涂層技術(shù)主要有兩大類，分別是物理氣相沉積法（PVD）和化學(xué)氣相沉積法（CVD），但是再往下細(xì)分的話又有很多種涂層技術(shù)，常用的PVD涂層技術(shù)有磁控濺射技術(shù)和電弧離子鍍技術(shù)。盡管這兩種涂層技術(shù)有著諸多優(yōu)點，但是缺陷也不少。磁控濺射技術(shù)存在金屬離化率低，膜基結(jié)合力差等不足；而電弧離子鍍技術(shù)制備涂層過程中會產(chǎn)生大顆粒濺射物，污染涂層表面。為了進一步提高涂層性能并推廣使用，新型涂層制備技術(shù)的成果轉(zhuǎn)化已是刻不容緩。下面，小編為大家分享一下當(dāng)前涂層新型涂層制備技術(shù)有哪些吧。

　　一、高功率脈沖磁控濺射技術(shù)

　　高功率脈沖磁控濺射( HiPIMS)技術(shù)是近年來發(fā)展起來的是一種為濺射靶材提供高離化率脈沖的PVD技術(shù)，HiPIMS是新一代PVD涂層技術(shù)。該技術(shù)比傳統(tǒng)磁控濺射的脈沖峰值功率高1000倍或更高，可實現(xiàn)金屬高離化率( >50%)。

　　高功率脈沖磁控濺射技術(shù)具有磁控濺射無顆粒缺陷、表面光滑和電弧離子鍍低溫、離化率高、內(nèi)應(yīng)力可調(diào)、均勻沉積、膜基結(jié)合力強、涂層致密等優(yōu)點，且離子束流不含大顆粒，相比于其他電源，其放電的占空比低( <1%)，脈沖寬度(通常介于5和500 μs)相對較小，在控制涂層微結(jié)構(gòu)的同時可獲得較高的膜基結(jié)合強度，降低涂層內(nèi)應(yīng)力，提高涂層的致密性均勻性，特別是沉積材料到復(fù)雜幾何形狀工件不同區(qū)域的導(dǎo)向作用等，都存在著顯著的技術(shù)優(yōu)勢，被認(rèn)為是PVD近些年來發(fā)展史上的一項尤為重要的技術(shù)突破。

新型涂層制備技術(shù)

　　二、離子束輔助沉積技術(shù)

　　離子束輔助沉積技術(shù)是由物理氣相沉積和離子注入形成的一種新型的表面材料處理技術(shù)。它是在物理氣相沉積的同時，用一定能量的離子束轟擊正在生長的沉積薄膜表面并將額外的能量傳遞到沉積薄膜的材料上，增強薄膜結(jié)構(gòu)的致密性，提高薄膜性能，同時通過改變薄膜表面環(huán)境來影響沉積薄膜的成分、結(jié)構(gòu)、性質(zhì)的過程。

　　離子束濺射沉積期間應(yīng)用的輔助離子束有助于增加吸附原子的遷移率，從而獲得更光滑的表面質(zhì)量，更小的晶粒尺寸，更高的膜基結(jié)合強度，相對較低的壓縮特性的內(nèi)應(yīng)力，而小尺寸的晶粒和存在的壓應(yīng)力都有助于材料獲得較高的硬度。離子束輔助沉積技術(shù)制備的涂層的硬度要比大量相同成分樣品的硬度高得多。該技術(shù)保持了離子注入的優(yōu)點，且在離子束輔助沉積過程中，可選擇改變離子束的能量、離子束流密度、以及離子束的入射角度和入射離子的種類，同時又可單獨的改變這些參數(shù)，制備常規(guī)制膜技術(shù)很難制備的涂層薄膜。因此，這項技術(shù)近幾年來引起了廣泛的重視。

　　三、磁過濾電弧離子鍍技術(shù)

　　磁過濾電弧離子鍍技術(shù)是結(jié)合電弧離子鍍技術(shù)設(shè)備簡單、沉積速度快、工作溫度低、離化率高、繞鍍性好、入射離子能量高、工作電壓低的優(yōu)點，同時利用磁場過濾技術(shù)解決電弧離子鍍技術(shù)制備薄膜時產(chǎn)生的影響薄膜表面質(zhì)量，破壞薄膜連續(xù)性生長，降低薄膜綜合性能的大顆粒污染問題，是一項具有非常重要工程意義的涂層薄膜制備技術(shù)。

　　該技術(shù)是利用電弧放電的原理，在真空室中，靶材放電產(chǎn)生等離子體，并用過濾器濾掉等離子束流中存在的中性大顆粒，獲得純凈離子束，之后在材料表面沉積形成涂層。磁過濾電弧離子鍍技術(shù)利用磁場對等離子體以及大顆粒的不同作用將大顆粒過濾掉，制備出的薄膜或涂層可以有效地排除沉積過程中有不良影響的大顆粒和中性微粒。與其他沉積技術(shù)相比，不但可以通過調(diào)整設(shè)備參數(shù)控制薄膜的成分，而且該技術(shù)還可獲得晶粒微細(xì)、膜基結(jié)合力強、致密性良好、硬度高的涂層薄膜，在工業(yè)化生產(chǎn)中具有更廣泛的應(yīng)用前景。

　　以上就是新型涂層制備技術(shù)有哪些的相關(guān)內(nèi)容介紹。通過上述內(nèi)容可知，上述三種新型涂層技術(shù)是在原有涂層技術(shù)上發(fā)展起來的，并且彌補了原有技術(shù)的不足，進一步增強技術(shù)適用性，擴大了涂層的應(yīng)用范圍。