磁控濺射鍍膜是PVD涂層的常用制備方法之一，在上世紀80年代起就參與涂層實際應用當中，在表面工程領域有著舉足輕重的地位，可用于制備超硬涂層、耐腐蝕涂層、磁性涂層以及光學涂層等。下面，小編為大家講述一下磁控濺射鍍膜基本原理及其優(yōu)于傳統(tǒng)鍍膜技術的特點吧。

　　一、磁控濺射鍍膜的基本原理

　　濺射技術是指用有一定能量的粒子轟擊固體表面，使該固體表面的原子或者分子離開其表面，濺射出去的技術，該固體被稱為靶材，飛濺而出的原子或分子落于另一固體表面形成鍍膜，被鍍膜的固體稱之為基片。電子在外加電場作用下，加速向外飛出，與Ar原子發(fā)生碰撞，使Ar原子電離成Ar離子和二次電子，并將其大部分能量傳遞給Ar離子，Ar離子獲得能量后以高速轟擊靶材，使其上原子或分子脫離靶材表面飛濺出去，這些獲得能量的原子或分子落于基片表面并沉淀下來形成鍍膜。但由于發(fā)生了多次的能量傳遞，導致電子無法轟擊電離靶材，而是直接落于基片之上。

　　磁控濺射是在外加電場的兩極之間引入一個磁場，電子受電場力加速作用的同時受到洛倫茲磁力的束縛作用，從而使其運動軌跡由原來的直線變成擺線，從而增加了高速電子與氬氣分子相碰撞的幾率，能大大提高氬氣分子的電離程度，因此便可降低了工作氣壓，而Ar離子在高壓電場加速作用下，轟擊靶材表面，使靶材表面更多的原子或分子脫離原晶格而濺出靶材飛向基片，高速撞擊沉淀于基片上形成涂層。由于二次電子殘余的能量較低，落于基片后引起的溫度變化并不顯著，于是磁控濺射鍍膜技術擁有“高速低溫”的特點。

PVD涂層

　　二、磁控濺射鍍膜優(yōu)于傳統(tǒng)鍍膜技術的特點

　　1、可制備成靶材的材料很多，選材面較廣，幾乎所有金屬，合金和陶瓷材料都可以被用來制作靶材；

　　2、在一定條件下通過多個靶材共同濺射方式，可在基片表面鍍上一層比例合適的合金膜；

　　3、通過準確地控制磁場與電場的大小可以獲得高質量且較為均勻的膜厚；

　　4、由于是通過離子濺射從而使得靶材物質由固態(tài)直接轉變?yōu)楦咚匐x子態(tài)，而且濺射靶的安裝是不受限制的，使之特別適合大容積多靶裝置的設計；

　　5、此外，在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體，可以是靶材與這些氣體發(fā)生反應形成化合物膜層沉淀在基片的表面；

　　6、磁控濺射技術形成鍍膜具有速度快，膜層致密均勻、精度高、附著性好等特點，很適合大批量的工業(yè)化生產。

　　關于磁控濺射鍍膜基本原理及其優(yōu)于傳統(tǒng)鍍膜技術的地方大致介紹即是上文所述，相信